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华为芯片光刻技术有了吗?谁有芯片光刻技术

2020-09-11 13:27:51  来源:找靓机

大家都知道,一款5nm芯片想实现量产最重要的有两个点:设计和制造。就设计而言,其实已经有不少厂商能够做到,但苦于没有制造能力,只能寻求供应商。

而全球仅有的几个供应商,也只能依赖美国的技术完成量产,比如台积电、三星。所以这也是华为目前最大的困难,虽然可以自主研发和设计芯片,但这些东西没法被制造出来,确实是有苦难言。

这也导致它目前只能采用其他芯片,上半年已经有多款新发布的手机与联发科合作,虽然性能也算是不错,但始终让人感觉差了那味。

正当我们以为华为的未来不明确时,网上都在纷纷欢呼:中科院在5nm光刻机上有了重大突破、中国有了自己的5nm光刻机、华为有救了等等消息。

他们表示,中科院官网刊登了一篇报道,关于苏州纳米所等在超高精度激光光刻技术研究中获得巨大进展,团队开发了一种新型三层堆叠薄膜结构,可以实现5纳米的特征线宽。

这里简单说明一下,因为ASML的极紫外光刻技术已经非常领先,中科院为了达到这一效果,只能选择这一不同的办法,希望可以追赶上ASML。

乍一看下来,似乎中科院这一消息就是雪中送炭,接下来就等着他们按部就班的研发,到时候给我们带来更大的惊喜。

那如果成功了,华为是不是就有救了呢?

首先大家要知道,中科院的这个技术,最后的目的是为了实现纳米狭缝电极阵列结构的规模生产,实际上并非集成电路,所以压根就不是指芯片制造。

而且目前国内的光刻机也还在90nm这个节点,只能用于90nm芯片的制造,可以说就是手机中的"低端机"。ASML则是当代最强,已经可以用于5nm的生产,如果算的话,两者中间隔了差不多10年以上的技术含量。

虽然目前很多产品都需要光刻,但别看到光刻技术,就觉得一定要用到光刻机,这里面还是有着巨大差别的。中科院这个技术,压根就没有提到光刻机的问题,所以并不等于具备了5nm光刻机的生产力。

另外,他们还明确指出,这项技术只是在实验阶段完成,要实现商用,还需要大量的成本和时间,当然,良品率也是能否达到标准的重要指标之一。

所以说,以现阶段来看,中科院的新型5nm高精度激光光刻技术对华为并没有任何帮助,甚至很有可能压根就不是同一个东西,华为的处境依旧十分艰难。

但别的不说,中科院这一消息,至少就不是件坏事,我们能看到中国在光刻技术上的进步,这就是一件值得高兴、值得庆祝的事情,希望国产技术越来越强大,早日走出被别人困住的局面。

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